GB/T17866-1999 GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
标准编号：GB/T 17866-1999 时间：1999-09-01 大小：KB 浏览次数：34 下载次数：3| 资料名称： | GB/T17866-1999 GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 | |
| 标准类别： | 国家标准 | ||
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 文件类型： | .rar | ||
| 整理时间： | 1999-09-01 | ||
| 授权方式： | 免费下载 | ||
| 下载方式： | FTP下载 | ||
| 等 级： |  |
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| 标准状态： | （仅供参考） | ||
| 作废日期： | （仅供参考） | ||
| 实施日期： | 2000-06-01（仅供参考） | ||
| 浏览次数： | 34次 |
| 标准简介： | GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 国家标准(GB) GB/T17866-1999 本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成，所以在本标准中，测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。 标准压缩包解压密码：www.51zbz.com |
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| 标准编号： | GB/T 17866-1999 正在载入地址 | |
| 标准名称： | 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 | |
| 英文名称： | Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems（仅供参考） | |
| 替代情况： | （仅供参考） | |
| 采标情况： | idt SEMI P23:1993（仅供参考） | |
| 发布部门： | 国家质量技术监督局（仅供参考） | |
| 页 数： | 平装16开， 页数：13， 字数：21千字（仅供参考） | |
| 首发日期： | 1999-09-13（仅供参考） | |
| 复审日期： | 2004-10-14（仅供参考） | |
| 提出单位： | （仅供参考） | |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会（仅供参考） | |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心（仅供参考） | |
| 相关标准： | 无相关信息 | |
| 下载次数： | 3次 | |
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