SJ/T10627-1995 SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
标准编号：SJ/T 10627-1995 时间：1995-04-22 大小：KB 浏览次数：62 下载次数：10| 资料名称： | SJ/T10627-1995 SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 | |
| 标准类别： | 行业标准 | ||
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 文件类型： | .rar | ||
| 整理时间： | 1995-04-22 | ||
| 授权方式： | 免费下载 | ||
| 下载方式： | FTP下载 | ||
| 等 级： |  |
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| 标准状态： | （仅供参考） | ||
| 作废日期： | （仅供参考） | ||
| 实施日期： | 1995-10-01（仅供参考） | ||
| 浏览次数： | 62次 |
| 标准简介： | SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 电子行业标准(SJ) SJ/T10627-1995 标准压缩包解压密码：www.51zbz.com |
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| 标准编号： | SJ/T 10627-1995 正在载入地址 | |
| 标准名称： | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 | |
| 英文名称： | Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction（仅供参考） | |
| 替代情况： | （仅供参考） | |
| 采标情况： | （仅供参考） | |
| 发布部门： | （仅供参考） | |
| 页 数： | 6页（仅供参考） | |
| 首发日期： | （仅供参考） | |
| 复审日期： | （仅供参考） | |
| 提出单位： | （仅供参考） | |
| 归口单位： | （仅供参考） | |
| 主管部门： | （仅供参考） | |
| 起草单位： | （仅供参考） | |
| 相关标准： | 无相关信息 | |
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